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번호	제목
17	High density plasma reactive ion etching of Co₂MnSi thin films using a CH₃OH/Ar gas mixture for magnetic random access memory applications 아드리안, 최지현, 황수민, 정지원 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회
16	Comparison of etch characteristics of Ru thin films using CH₃OH/Ar and CH₄/O₂/Ar plasmas 황수민, 아드리안, 최지현, 정지원 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회
15	Application of new acrylamide-based block copolymers to next generation nanolithography 한양규 한국고분자학회 2014년 가을 학술대회
14	Etching Characteristics by using Pulse-Time-Modulation in 60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitive Coupled Plasma 이철희, 염근영 한국재료학회 2014년 봄 학술대회
13	Etching Properties of Magnetic Tunnel Junction Materials using CO/NH3 Gas Mixtures in Pulsed-bias ICP System 윤덕현, 염근영 한국재료학회 2014년 봄 학술대회
12	Controlled alignment of block copolymers with solvent annealing using top coating layer 김은진, 이광희, 손정곤 한국고분자학회 2013년 가을 학술대회
11	Puled Plasma를 이용하여60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitive coupled plasma에서 SiO₂의 식각특성에 관한 연구 염근영, 전민환, 김회준 한국재료학회 2013년 봄 학술대회
10	Self-Assembly of Block Copolymer Blends as a Route to Inorganic Nanostructure 김경태, 이진욱, 김옥영, 김승현 한국고분자학회 2012년 가을 학술대회
9	nMOS high-k gate stack 형성을 위한 capping layer의 선택적 에칭 오지숙, 배진성, 서동완, 임상우 한국화학공학회 2011년 봄 학술대회
8	Highly tunable block copolymer self-assembly for nanopatterning 정연식, 정재원 한국재료학회 2011년 봄 학술대회