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Degradation and Decolorization from TNT Wastewater by Several Advanced Oxidation Processes
전정철, 권태옥, 문일식
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
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플라즈마 반응가스에 따른 유기오염물 제거 효율성 및 특성 분석
김광우, 이원규
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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UV/O3와 ECR plasma를 이용한 실리콘 웨이퍼상의 유기오염물의 건식세정|UV/O3와 ECR plasma를 이용한 실리콘 웨이퍼상의 유기오염물의 건식세정
이종무
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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포름산 수용액의 광촉매 분해에 대한 과산화수소의 영향|A hydrogen peroxide effect of photocatalytic decomposition of formic acid in an aqueous solution
장동원,김태민,이태희|Chang Dongwon,Kim Taemin,Lee Taehee
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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고급산화공정(AOP)을 이용한 Sodium Benzensulfonate(SBS)의 산화분해에 관한 연구|A study on ooxidation/degradation of sodium benzenesulfonate by advanced oxidation process
임재경, 전재성, 권기식, 이홍승, 한도흥|Jae Kyung Lim, Jae Sung Jeon, Ki Sik Kwon, Hong Seung Lee, Do Heung Han
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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UV/O3산화법을 이용한 Water Jet Loom 폐수의 용수 재활용 공정개발|Process development on reuse of water jet loom - waste water using method of UV/O3 oxidation
임재경, 전재성, 권기식, 이홍승, 한도흥, 이석영, 김형섭|Jae Kyung Lim, Jae Sung Jeon, Ki Sik Kwon, Hong Seung Lee, Do Heung Han, Suk Young Lee, Hyung Sup Kim
한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
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자외광 여기 NF3/H2 가스를 사용한 웨이퍼 세정 공정에서 자연 산화막 제거의 반응 기구|Reaction mechanism of the removal of native oxide in wafer cleaning process employing UV excited NF3/H2
권성구, 백종태, 김도현|Sung-Ku Kwon, Jong-Tae Baek, Do-Hyun Kim
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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가스상 세정공정에서 자연 산화막 제거에 대한 UV 조사의 영향|Effect of UV exposure on native oxide removal in dry cleaning process
권성구, 김도현|Sung Ku Kwon, Do Hyun Kim
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
