화학공학소재연구정보센터
번호 제목
2 고 연마율을 위한 MEMS CMP용 Cu 슬러리의 특성 평가|The Characterization of Cu Slurry with High Removal Rate for MEMS CMP
이진형, 김인권, 임현우, 차남구, 박진구
한국재료학회 2004년 봄 학술대회
1 Filtered vacuum arc법을 이용한 MgO 보호막 증착에 미치는 자장의 영향.|Influence of the magnetic field on MgO protective layer deposited by filtered vacuum arc method.
이은성, 김종국, 배성규, 이성훈, 조영상
한국재료학회 2004년 봄 학술대회