| 239 |
Direct visualization of etching trajectories in metal-assisted chemical etching of Si by chemical oxidation of porous sidewalls
Sung-Soo Yoon, Dahl-Young Khang
한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
| 238 |
Statistical variable selection of OES signal for identifying key process characteristics in plasma etching
하대근, 구준모, 박담대, 노현준, 유상원, 한종훈
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
| 237 |
플라즈마 에칭 공정에서의 Model Predictive Control기법을 이용한 컨트롤 전략
구준모, 하대근, 한종훈
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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Etch mechanism of Si3N4 in a C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasma
조성운, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
| 235 |
Angular dependence of Si3N4 etch rates in fluorocarbon plasmas
김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
| 234 |
Effect of bias voltage on the angular dependence of SiO2 etch rates in C4F8 plasmas
김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
| 233 |
Effect of gas composition on the angular dependence of SiO2 etch rates in fluorocarbon plasmas
박정근, 김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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Low cost and highly reliable fabrication process of nanodevice for bioapplications
정희춘, 김진태, 유찬석, 안의진, 유혜성, 이수한, 최대근, 임연호
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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Inductive coupled plasma reactive ion etching characteristics of Ta thin films for hard mask applications
최지현, 아드리안, 황수민, 정지원
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
| 230 |
Multiscale simulation of plasma etching process from molecular interactions to feature profile
육영근, 유혜성, 조덕균, 장원석, 유동훈, 최광성, 임연호
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
