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Molecular materials Containing a Large amount of Iodine as a Sensitizer to Improve the Performance of Extreme UV Resist
박한빛, 이진균, 구예진
한국고분자학회 2021년 봄 학술대회 |
| 7 |
Interpretation of Line Edge Roughness in Extreme-Ultraviolet (EUV) Lithography using Molecular Simulations
박주혜, 이성규, Yannick Vesters, 김명웅, Danilo De Simone, 오혜근, 허수미
한국고분자학회 2019년 봄 학술대회 |
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Reducing Line Edge Roughness of PS-b-PMMA pattern using hydrogen bonding located at the interface of the microdomains
이규성, 장상신, 박지철, 이재용, 황희동, 김진곤
한국고분자학회 2016년 봄 학술대회 |
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Effect of acid diffusion control on triphenylsulfonium salt bound polymer resist.
정진혁, 박상욱, 이해원
한국고분자학회 2013년 가을 학술대회 |
| 4 |
Synthesis and Characterization of Triphenylsulfonium Salt Bound Polymer Resist for Fabrication of Nanostructure
정진혁, 이해원, 강하나, 강만규
한국고분자학회 2013년 봄 학술대회 |
| 3 |
Synthesis and Application of Novel Photoacid Generator Bounding Polymer Resist for Electron Beam Lithography
강하나, 이해원, 권오정, 손경화
한국고분자학회 2012년 봄 학술대회 |
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Triphenylsulfonium Triflate Bound- and Blended-Polymer Resists for Electron Beam Lithography
권오정, 김민정, 손경화, 강하나, 김은광, 이해원
한국고분자학회 2011년 가을 학술대회 |
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Ultra high etch selectivity and variation of line edge roughness during etching of silicon oxynitride with patterned extreme ultra-violet resist resist in dual-frequency capacitively coupled plasmas
권봉수, 이정훈, 이내응
한국재료학회 2010년 가을 학술대회 |
